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株式会社 豊島製作所  マテリアルシステム事業部
株式会社豊島製作所 マテリアルズシステム事業部Phone0493-24-6774
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MOCVD材料

MOCVD precursor

MOCVD材料の要求特性(反応性、気化性、熱安定性等)は、目的膜の要求特性(膜質、電気特性、機械特性等)によって異なることから、成膜プロセスを考える上で、材料選びは重要なファクターです。当社ではあらゆる膜に対応できるよう多種類のMOCVD材料を開発、商品化して、お客様のニーズにお応えしています。特に酸化物薄膜の作製用のMOCVD材料に力を入れており、DPM錯体をはじめとするβ-ジケトン錯体に関しては、配位子β-ジケトンの構造を変えることで、さまざまな物性を持つ材料を開発しています。ご注文の最小単位は5gからで、ガラスアンプルでの提供になりますが、お客様のご要望に応じてステンレスシリンダー入り溶液などの出荷形態も承っています。また、開発した材料を、明星大学様との共同研究により実際に成膜試験を行って、MOCVD材料としての適合性を調査し、学術講演会や論文誌にて発表しています。豊島製作所では、気化性、分解性、溶解性に差異を持った、多様な種類のCVD材料を取り揃えており、お客様の装置・成膜条件に合った材料を提供しております。

取り扱い元素

H
He
Li
Be
B
C
N
O
F
Ne
Na
Mg
Al
Si
P
S
Cl
Ar
K
Ca
Sc
Ti
V
Cr
Mn
Fe
Co
Ni
Cu
Zn
Ga
Ge
As
Se
Br
Kr
Rb
Sr
Y
Zr
Nb
Mo
Tc
Ru
Rh
Pd
Ag
Cd
In
Sn
Sb
Te
I
Xe
Cs
Ba
Ln
Hf
Ta
W
Re
Os
Ir
Pt
Au
Hg
Tl
Pb
Bi
Po
At
Rn
Fr
Ra
La
Ce
Pr
Nd
Pm
Sm
Eu
Gd
Tb
Dy
Ho
Er
Tm
Yb
Lu
β-ジケトン錯体
Zn錯体の融点と溶解性
Materialsm.p.(℃)Solubility
TolueneButyl AcetateTHF
Zn(TMOD)248SAS
Zn(DPM)2141ABA
Zn(IBPM)2<20AAA
Zn(DIBM)280SAS
Zn(acac)2138GGG

S:>1mol/l A:1-0.5mol/l B:0.5-0.33mol/l 
C:0.33-0.25mol/l D:0.25-0.2mol/l  E:0.2-0.15mol/l 
F:0.15-0.1mol/l G:<0.1mol/l

構造が少し異なるだけで融点・溶解性が大きく変化
構造が少し異なるだけで気化性・分解特性が変化

MODコート材料

MOD coating materials

組成・濃度等のカスタマイズ可能です。実験的な先進材料の作製にも挑戦してまいります。

酸化物半導体・導電性酸化物

ZnO
NiO
TiO2
LaNiO3

強誘電体

Pb(Zr,Ti)O3
SrBi2Ta2O9
BiFeO3
(K,Na)NbO3/KNbO3/KTaO3
Sr2Nb[Ta]2O7
(Ba,Sr)TiO3
BaTiO3
LiNbO3

その他

(La,Sr)MnO3
(La,Sr)CoO3
SrTiO3
P-V hysteresis loop of 300nm spincoated PZT film
SEM image of spincoated LaNiO3 film
TG-DTA chart of LaNiO3 coating solution
XRD pattern of 200nm spincoated SrTiO3 film