MOCVD材料 : 製品情報 : 豊島製作所マテリアルズシステム事業部

MOCVD材料

β-ジケトン錯体

β-ジケトン錯体

MOCVD材料の要求特性(反応性、気化性、熱安定性等)は、目的膜の要求特性(膜質、電気特性、機械特性等)によって異なることから、成膜プロセスを考える上で、材料選びは重要なファクターです。

当社ではあらゆる膜に対応できるよう多種類のMOCVD材料を開発、商品化して、お客様のニーズにお応えしています。

特に酸化物薄膜の作製用のMOCVD材料に力を入れており、DPM錯体をはじめとするβ-ジケトン錯体に関しては、配位子β-ジケトンの構造を変えることで、さまざまな物性を持つ材料を開発しています。

MOCVD材料

ご注文の最小単位は5gからで、ガラスアンプルでの提供になりますが、お客様のご要望に応じてステンレスシリンダー入り溶液などの出荷形態も承っています。

また、開発した材料を、明星大学様との共同研究により実際に成膜試験を行って、MOCVD材料としての適合性を調査し、学術講演会や論文誌にて発表しています。

取り扱い元素

H                                 He
Li Be                     B C N O F Ne
Na Mg                     Al Si P S Cl Ar
K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr
Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe
Cs Ba Ln Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn
Fr Ra                                
    La Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu  

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Zn錯体の融点と溶解性

Materials m.p.(°C) Solubility
Toluene Butyl Acetate THF
Zn(TMOD)2 48 S A S
Zn(DPM)2 141 A B A
Zn(IBPM)2 <20 A A A
Zn(DIBM)2 80 S A S
Zn(acac)2 138 G G G

S : >1mol/l A : 1-0.5mol/l B : 0.5-0.33mol/l C : 0.33-0.25mol/l D : 0.25-0.2mol/l
E : 0.2-0.15mol/l F : 0.15-0.1mol/l G : <0.1mol/l

構造が少し異なるだけで融点・溶解性が大きく変化

CVD成膜におけるCo堆積速度の原料温度依存性

CVD成膜におけるCo堆積速度の
原料温度依存性

In錯体のArフロー中TG測定データ比較

In錯体のArフロー中TG測定データ比較

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薄膜材料カタログ

薄膜材料カタログ2010年版

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