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垂直時期記録メディア(PMR)の構造
大容量化の進むハードディスクにおいて、今、最も注目を集めているのが「垂直磁気記録方式」と呼ばれる記録方式です。
垂直磁気記録方式は、文字通り"垂直方向"に磁化を行うことで従来の"水平方向"に磁化する記録方式と比較してハードディスクの記録容量を格段に拡大することが可能です。
垂直磁気記録を構成する数々の薄膜も、スパッタリング法によって成膜されています。
豊島製作所では、この「垂直磁気記録方式ハードディスク」において最も肝心な「垂直磁気記録膜」用のスパッタリングターゲット材料を市場へ提供しています。
垂直磁気記録膜材料に求められるのは、記録膜としての高い特性（書き込み・読み取り特性）は当然のこと、媒体製造ラインにおける高い歩留まりを実現する高品質です。
それを実現するためには、スパッタ成膜時に「パーティクル」と呼ばれる粗大粒子の発生を防ぐ必要があります。
そして、パーティクルを低減するに当たって重要なのは、ターゲット組織の構造が大きく影響します。
つまり、スパッタリングターゲット材を構成する各粒子が微細で均質に分布していることが重要となります。
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従来法
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新製法
左の写真は、当社におけるCoCrPt-Xターゲットの従来品と新製法品との比較SEM像です。新製法品では、明らかに従来品よりもターゲットを構成する組織が微細で均一に分布していることがわかります。
